美军资助研发可提升学习能力的外戴装置“非侵入性经颅直流电刺激”

   美军资助的专家正研发tDCS装置。图为过往美国空军研究的同类装置。

美军资助的专家正研发tDCS装置。图为过往美国空军研究的同类装置。

前额叶皮质控制了许多执行职能的地区。

前额叶皮质控制了许多执行职能的地区。

(神秘的地球uux.cn报道)一条令人戴上后会变得聪明的头带,看似是天马行空的想法,近日一批获美国军方资助的专家,正研发可提升用家学习能力的外戴装置,或可增加学习速度40%,有望最快能于2022年普及使用。

来自加拿大麦吉尔大学和“HRL”实验室的研究人员,在美国国防部辖下的国防高级研究计划署(DARPA)提供资金援助下,研究“非侵入性经颅直流电刺激”(tDCS)对增加学习速度和记忆形成的作用。tDCS装置会将电流施加到大脑的前额叶皮质,以改善大脑不同区域之间的连接,提升用家的学习能力。

实验中,头皮上放置了tDCS装置电极的猕猴,能以更少的尝试次数学会完成同样的任务,效率增加约40%。首席研究人员皮利(Praveen Pilly)表示:“前额叶皮质控制了许多执行职能的大脑区域,包括决策、认知控制和情境记忆检索。它几乎与大脑其他皮层区域相连,刺激它能起到广泛作用。”

研究团队表示,现时正寻求美国食品及药物管理局的批准生产tDCS的装置,并相信它将于未来5至10年内广泛使用。




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